国产ArF光刻胶已有3家企业实现实质性的技术突破
2021-09-12 10:32
势银(TrendBank)研究统计分析，2021年国内半导体光刻胶市场规模将达到29亿人民币。
国内半导体光刻胶布局及生产企业总计约有14家，真正实现了批量供应的企业不足7家，且主要集中在紫外负胶/正胶、i/g线光刻胶，如：北京科华、苏州瑞红、潍坊星泰克、艾森半导体、江苏汉拓等。而高端的KrF光刻胶国产化率不足1%，能够实现产品供应的有：北京科华、福建泓光半导体、江苏汉拓、上海新阳等。在技术附加值更高的ArF光刻胶产品上，目前国内还未能真正实现规模化量产订单供应，就数宁波南大光电、博康旗下汉拓光学以及广州微纳光刻材料在ArF光刻胶产品上有实质性的技术突破。
来源：势银(TrendBank)
窥探中国大陆规模最大的晶圆代工厂中芯国际各技术节点营收结构，在2020年年底被美国打压，四季度45nm以下制程营收发生严重压缩，但在今年上半年公司整体运营开始逐步转好，营收增长了33%，28nm/14nm的先进制程占比更是显著提升，这也推动了上游先进光刻胶的需求，尤其是ArF光刻胶的国产替代。
来源：SMIC
目前国内芯片制造企业消耗的ArF光刻胶基本是采购国外供应商，例如：JSR、TOK、信越化学等。我国本土光刻胶企业在ArF光刻胶产品上还是和国际老牌供应商之间存在很大的光刻性能差距，如：折射率、光敏度、分辨率、线边缘粗糙度等等参数。经势银(TrendBank)调研统计，我国正在真正逐步推进ArF光刻胶项目且有技术实力的厂商仅有如下6家，推测这几家也将是未来2-3年内逐一打入本土芯片制造商供应链的最有利竞争者：
宁波南大光电
公司是ArF光刻胶产品开发与产业化项目的实施主体单位，目前ArF干式光刻胶已通过50nm闪存平台认证和55nm逻辑电路平台认证。公司正在大力推进ArF光刻胶（ArF干式分辨率90-45nm，湿式分辨率65-14nm）产能建设，规划年产能达到25吨（干式5吨和浸没式20吨）。
上海新阳
公司是KrF厚膜胶与ArF光刻胶开发与产业化项目的实施主体单位，已拥有两台ArF光刻机，可分别用于干法和湿法光刻胶开发。目前KrF厚膜胶（分辨率≥0.15μm，膜厚0.3-15μm）已通过下游客户验证，可应用于3D存储器件工艺/PAD/Implant，预计2021年年底会有订单批量供应出货。其ArF光刻胶尚处于客户认证当中，可应用于先进逻辑节点的Line/Contact/Hole/Trench，按进度预计在2021年年底会取得实质性的突破进展。
北京科华
公司是国内本土KrF光刻胶主力供应商，目前已经打入国内多家芯片制造厂供应链（如长江存储、中芯国际、广州粤芯、华虹半导体），2021年上半年KrF光刻胶同比增长94.51%，产品可应用于Poly/AA/Metal/Implant/Contact Hole等工艺，其ArF光刻胶项目正在按计划推进。
晶瑞股份
公司是老牌半导体光刻胶供应商之一，现已拥有一台ArF干式光刻机。其KrF光刻胶样品正在下游客户验证，分辨率可达0.15-0.25μm，可应用于Hole/Line/Space等层工艺，其ArF干式光刻胶正处在开发阶段，分辨率可达90-65nm。
江苏汉拓
公司是徐州博康集团控股子公司，具备徐州博康成熟的KrF、ArF光刻胶单体开发技术背景，目前已开发KrF正胶和负胶产品，以负胶（分辨率0.25μm，膜厚0.6μm）和厚膜胶（分辨率1μm，膜厚3-5μm）为重点，可应用于Lift-off工艺、厚铝刻蚀、PAD工艺；ArF系列光刻胶正在以与客户合作开发模式推进，开发的ArF光刻胶样品分别达到了N90、N65、N55的应用需求，已有一款ArF光刻胶产品小批量供应某存储芯片制造商，全系列产品还需进一步在客户端评估验证。
广州微纳光刻材料
公司专注开发ArF光刻胶，目前主要开发了90nm和55nm节点的ArF光刻胶样品，90nm节点的光刻胶有很好的线宽粗糙度，55nm节点的高宽比可达3.2:1，同复旦大学微电子学院邓海教授课题组有深度合作，其以OEM形式进行代工生产，和广东/嘉兴两家化工生产企业签订了代工协议。
势银(TrendBank)2021年推出最新年度报告《2021年光刻胶产业市场分析报告》，本市场研究报告侧重于国内半导体/显示光刻胶市场/供应链，报告具体目录如下：
第1章 光刻胶概念及其行业发展概述
1.1 光刻胶概念深度剖析
1.1.1 光刻胶应用场景分析
1.1.2 光刻胶的产品及应用属性分析
1.1.3 先进光刻材料热点剖析
1.2 中国光刻胶行业发展现状
1.2.1 国内光刻胶整体市场及国产化情况
1.2.2 国内光刻胶产业链瓶颈剖析
1.2.3 国内各地利好政策及项目布局剖析
第2章 中国光刻胶专用化学品行业竞争环境分析
2.1 全球光刻胶专用化学品主要企业格局现状
2.1.1 上游主要企业所属地分布情况
2.1.2 主要企业化学品经营范畴
2.2 国内光刻胶专用化学品市场分析
2.3 国内光刻胶专用化学品主要企业剖析
2.3.1 强力新材
2.3.2 圣泉集团
2.3.3 徐州博康
第3章 中国光刻胶行业竞争环境分析
3.1 国内光刻胶企业地域分布深度剖析
3.2 国内光刻胶企业的产品/产能情况统计
3.3 国内光刻胶市场深度剖析
3.3.1 国内半导体及显示光刻胶市场格局分析
3.3.2 国内半导体及显示光刻胶市场规模分析
3.4 国内光刻胶产业配套检测设备剖析
3.4.1 配套检测设备资金投入占比剖析
3.4.2 光刻胶关键设备国产化分析
第4章 全球光刻胶行业主要企业发展情况分析
4.1 国外光刻胶产业主要企业经营情况分析
4.1.1 德国默克
4.1.2 日本TOK
4.1.3 日本JSR
4.1.4 美国陶氏化学
4.2 重点企业发展情况剖析
4.2.1 南大光电
4.2.2 晶瑞股份
4.2.3 彤程新材
4.2.4 上海新阳
4.2.5 雅克科技
第5章 中国光刻胶专利及光刻技术分析
5.1 国内主要企业专利申请情况剖析
5.2 国内光刻胶专利深度剖析
5.2.1 国内光刻胶专利结构分析
5.2.2 国内外专利趋势对比分析
5.3 先进光刻技术路线对比分析
第6章 中国光刻胶下游需求市场情况分析
6.1 下游应用结构剖析
6.2 终端市场格局分析
第7章中国光刻胶产业市场发展趋势预测（2021-2025）
第8章中国光刻胶产业投资机会及风险分析
8.1 产业投资机会
8.2 投资风险分析
转载自：势银膜链微信公众号。
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